会社概要

施設・設備紹介

施設紹介

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  • 第2~4実験前室

    3つの実験室にアクセス出来ます。

    第2~4 実験室は個室となっており暗室にも対応しています。ひとつの化合物をひとつの実験室の中で単独で製造することにより異物混入を防止しています。

  • 暗室

    UV をカットしたランプにより、光に不安定な化合物を取り扱うことが出来ます。

  • 実験室

    各実験台に真空ライン、窒素ライン、局所排気を備えつけており、快適に実験を行うことが出来ます。

  • 乾燥室

    種々の化合物の乾燥を行います。作業台に真空ラインが届いており、デシケーターや大型乾燥器に合成した化合物を入れて減圧乾燥を行っています。

設備紹介

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  • クロスロータリーミ キサー

    2軸の回転により、短時間で粉体の混合を行うことができます。

  • 高速液体クロマトグラフィー(HPLC)

    化合物の化学純度、光学純度の測定に使用しています。

    渡辺化学工業では純度基準を高水準に設定しており、規格を満たすと認められたものが製品として出荷されます。

  • 液体クロマトグラフ質量分析計(LC-MS)

    化合物の分子量確認に使用しています。

    合成過程での不純物の確認、同定にも活躍しています。

  • ガラスリアクター

    100Lと50Lの2基があり、酸性の化合物の合成に適しています。

  • GL製リアクター

    300Lを2基備えており、アミノ酸誘導体をはじめ種々の化合物をキログラムスケールで合成出来ます。